FIB:集束イオンビーム加工
概要
概要・手順
試料から直接小片を取り出し(マイクロサンプリング)、FIB加工を行うことができます。

SIM像提供:(株)日立ハイテクノロジーズ
特徴
- 耐水性が無い、剥離し易い等の難ダイシング材料からのサンプリングができます。
- 近接した複数の断面をTEM試料にできます。
- 微小チップからのサンプリングに有効です。
- EDX分析の際、基板の影響が軽減されます。
- 同一箇所の直交2断面からのTEM観察も可能です。
データ例:有機EL素子
有機EL層部

TFT部

試料から直接小片を取り出し(マイクロサンプリング)、FIB加工を行うことができます。

SIM像提供:(株)日立ハイテクノロジーズ


| MST技術資料No. | B0004 |
|---|---|
| 掲載日 | |
| 測定法・加工法 | [SEM]走査電子顕微鏡法 [(S)TEM](走査)透過電子顕微鏡法 [TEM-EDX]エネルギー分散型X線分光法(TEM) [FIB]集束イオンビーム加工 |
| 製品分野 | 電子部品 太陽電池 照明 ディスプレイ |
| 分析目的 | 組成評価・同定/組成分布評価/形状評価/構造評価/故障解析・不良解析 |
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