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半導体のイオン化ポテンシャル評価

UPS:紫外光電子分光法

半導体のイオン化ポテンシャル評価

半導体では、価電子帯立ち上がり位置(VBM)と高束縛エネルギー側の立ち上がり位置(Ek(min))より、イオン化ポテンシャルを求めることが可能です。
表面有機汚染除去程度のArイオンスパッタクリーニング後に測定を行っています。

価電子帯立ち上がり位置(VBM)の決定

価電子帯頂点近傍のスペクトルを直線で外挿し、バックグラウンドとの交点を求めます。

イオン化ポテンシャルの算出

イオン化ポテンシャル(I.P.)= hν-W
hν:照射紫外線のエネルギー(He I線21.22eV)
W:スペクトルのエネルギー幅(Ek(min) – VBM)

ITO膜表面のUPS測定結果

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MST技術資料No. B0191
掲載日
測定法・加工法 [UPS]紫外光電子分光法
製品分野 LSI・メモリ
分析目的 その他

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