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二酸化ケイ素の構造解析

非晶質(ガラス)二酸化ケイ素(SiO2)のラマン散乱分光法による構造解析

概要

二酸化ケイ素(SiO2)は半導体における絶縁膜・FPDの基板材料・光学材料・医療機器から装身具に至るまで幅広く用いられていますが、非晶質であるガラスとして構造解析を行うことは非常に困難です。
ガラス中でSiO2が環状に結合することに着目し、ラマン測定を行いました。(図1) 単結晶石英ではガラス状態のスペクトルとは著しく異なり、長距離秩序によるフォノンバンドが観測されます。(図2, 図3)

データ

参考文献:C. J. Brinker, D. R. Tallant, E. P. Roth and C. S. Ashley, J. Non-Cryst. Solids, 82, 117 (1986)

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MST技術資料No. C0004
掲載日
測定法・加工法 [Raman]ラマン分光法
製品分野 LSI・メモリ
ディスプレイ
分析目的 化学結合状態評価

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