微小領域・ガラス基板についてもSSDPによる分析が可能
概要
二次イオン質量分析法(SIMS)を用いて、市販TFT液晶ディスプレイのデータ信号配線とゲート電極配線の交差部(4μm×10μm)を、基板側から分析(SSDP-SIMS)した例を示します。
基板側から測定(SSDP-SIMS)を行うことにより、表面側の高濃度層や金属膜などの影響がないデータの提供が可能となります。
データ


二次イオン質量分析法(SIMS)を用いて、市販TFT液晶ディスプレイのデータ信号配線とゲート電極配線の交差部(4μm×10μm)を、基板側から分析(SSDP-SIMS)した例を示します。
基板側から測定(SSDP-SIMS)を行うことにより、表面側の高濃度層や金属膜などの影響がないデータの提供が可能となります。


| MST技術資料No. | C0025 |
|---|---|
| 掲載日 | |
| 測定法・加工法 | [SIMS]二次イオン質量分析法 [SSDP用加工]基板側からの測定用加工 |
| 製品分野 | ディスプレイ |
| 分析目的 | 組成分布評価/製品調査 |
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