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有機成分洗浄効果の評価

300mmウェハをそのまま測定できます

概要

TOF-SIMSには有機物、無機物を同時評価、微小領域に対応、最表面を感度よく分析できる、300mmウェハのまま評価可能という特徴があり、洗浄工程での残渣調査などに力を発揮します。
Si表面の有機汚染の除去効果の分析事例をご紹介します。XPSでアミン系有機物は極微量であることが確認されている試料について、TOF-SIMS分析を行いました。以下のように極微量の成分を検出することが可能です。

データ

Si表面の有機汚染の定性結果(正イオンスペクトル)

 

XPSによるSi表面の定量結果

                  定量値(atomic%)         -;検出下限以下 

元素CN (アミン系)OSi
未処理10.50.343.345.9
超純水洗浄6.945.148.0

適用例

  1. ウエハ・ガラスなどの洗浄工程による評価
    洗浄面内の残渣バラツキ、特定パターンの評価、異物、変色、曇りの分析
  2. Wet・Dry(プラズマ)エッチングなどの表面処理後の状態
    レジストのエッチング、アッシング評価など

結果の補足説明

M/z=74
C4H12N+が検出されているものと推定されます。
代表的:
①TMAH(テトラメチルアンモニウムハイドロオキサイド)
②ブチルアミン
 構造式:①[C4H12N]+OH
     ②CH3(CH2)3NH2
 使用用途:①洗浄液、エッチング液、レジスト用現像液、各種溶媒、触媒
      ②2液性のエポキシ起因
②CH3(CH2)3NH2
M/z=242C16H36N+が検出されているものと推定されます。
代表例:セチルアミン(Cetylamine)
     構造式:CH3(CH2)15NH2
     使用用途:界面活性剤など
CH3(CH2)15NH2
M/z=270C18H40N+が検出されているものと推定されます。
代表例:ステアリルアミン(Stearylamine)
     構造式:CH3(CH2)17NH2
     使用用途:界面活性剤など
CH3(CH2)17NH2
M/z=219C15H23O+が検出されているものと推定されます。
代表例:BHT(ジブチルヒドロキシトルエン)
     構造式:C15H24O
     使用用途:酸化防止剤など

TOF-SIMSの特徴

  1. 300mmまで非破壊で測定可能
  2. 指定箇所の測定可能
  3. 有機物のイメージの取得が可能
  4. 測定面積
    通常500μm角
    微小(1μmの異物)分析可能
    数cm角の分析可能

TOF-SIMSとXPSの比較

-TOF-SIMS-
1原子・1分子層の情報
有機汚染の構造の推定が可能
金属・酸の定性が可能
サンプル間の比較が可能
-XPS-
定量が可能
表面約数nmの情報
元素の定性が可能
状態分析が可能

サンプルの送付方法

300mmまで非破壊で測定可能です。ウエハケースのままでお送り下さい。

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MST技術資料No. C0035
掲載日
測定法・加工法 [TOF-SIMS]飛行時間型二次イオン質量分析法
製品分野 LSI・メモリ
電子部品
分析目的 組成評価・同定

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