薄膜成分の付着量を試料間で比較
概要
蛍光X線分析（XRF）では、元素分布の簡便な評価が可能です。 本事例では、蒸着装置を用いて任意量のAuを成膜した4inchのSiウエハA・Bを試料として、Auの分布および総付着量の比較を行いました。 面分析の結果より、Auの分布状態が確認できました（図1～4）。また、各画素から得られたXRFスペクトルのAu強度より付着量を比較し、ウエハBはAより多いことを確認しました（図5）。
データ
面分析結果
ウエハA（Au成膜量：小ない）
ウエハB（Au成膜量：多い）
総付着量の分析結果
積算XRF強度より、視野内におけるAu量はB＞Aであることが評価できました。 ※付着量の比較は、試料の構造・ウエハの面積が同じ場合に適用可能です。
POINT
